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            電子氣體的主要用途

            進入20世紀90年代以后,隨著我國高新技術的快速發展,計算機工業對大規模集成電路、液晶顯示器的需求大量增加;隨著新型能源的發展,我國大力開拓了多晶硅太陽能電池和薄膜太陽能電池的生產;此外,新型電光源、光電半導體器件(GaAs、InP、AlGaAs)、光纖通訊器件也獲得迅猛發展,在上述高新產品的生產中,都需要大量高純氣體,以制造出性能可靠的各種器件。

            大規模集成電路
            化學氣相沉淀:SiH4,NH3,O2,N2O,TEOS(四乙氧基硅)
            化學刻蝕:CF4,SF6,NF3,Cl2,CCl,BCl3,KrF,ArF,HBr,HCl
            化學摻雜:BF3,B2H6,PH3,AsH3

            液晶屏
            化學氣相沉淀:SiH4,SiNx
            化學刻蝕:SF6,HCl,Cl2

            太陽能電池
            化學氣相沉淀:SiH4,NH3,NF3
            擴散、刻蝕:POCl3,O2,CF4

            光電半導體
            化學氣相沉淀:AsH3,PH3,NH3,N2,H2
            化學刻蝕:BCl3,Cl2

            光導纖維
            化學氣相沉淀:SiH4,SiCl4,D2,GeCl4
            化學刻蝕:CF4,KrF,ArF,Cl2,SF6

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